モリブデン（10％）ニオブ合金スパッタリングターゲットは、薄膜太陽電池やディスプレイに幅広く応用されています。しかし、焼結中にニオブ粉末が酸素を吸収するため、焼結モリブデンニオブブランクは酸素含有量が高く、密度が低くなります。今回は、ニオブカーボンコーティングを施したニオブ粉末をCH4雰囲気下で化学気相反応により製造しました。
ニオブ炭素層は酸素の吸収を防ぐだけでなく、必要な温度で酸素と反応して完全に消費することもできます。
ニオブ炭素層の性能に対する調製方法、反応媒体および反応パラメータの影響を研究し、最適なプロセス条件は、温度600度、反応時間270分、ガス圧0.04mpaであると決定されました。
コーティングの表面形態、化学組成、分布および均一性は、走査型電子顕微鏡、X 線光電子分光法、電子プローブマイクロ分析、ラマン分光法および原子間力顕微鏡によって特性評価されました。
酸素と炭素の含有量は、ONH および CS 分析装置によって測定されました。表面改質されたニオブ粉末をモリブデン粉末と混合し、真空焼結して、酸素含有量 190ppm、炭素含有量 290ppm、相対密度 93% の Mo-10%Nb ブランクを得ました。
ニオブターゲットの用途
ニオブスパッタリングターゲットは、ニオブとその合金膜の主要成分として、太陽電池、カラーTFT LCDスクリーン、光学レンズ、電子イメージング、情報ストレージ、ガラスコーティング、輸送、化学製品製造などの耐腐食環境で広く使用されています。
現在、ニオブスパッタリングターゲットは、主に先進的なタッチスクリーン、フラットパネルディスプレイ、省エネガラスの表面コーティングに使用されており、ガラススクリーンの反射防止効果があります。
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