スパッタリングタンタルターゲット

スパッタリングタンタルターゲット

ターゲット物質は、高速荷電エネルギー粒子衝突用のターゲット物質です。異なるターゲット材料(アルミニウム、銅、ステンレス鋼、チタン、ニッケルターゲットなど)を交換することにより、異なる皮膜システム(超硬、耐摩耗性、耐食性合金皮膜など)を得ることができます。タンタルスパッタリングターゲットは主に集積回路、情報ストレージ、液晶ディスプレイ、レーザーメモリ、電子制御装置などのエレクトロニクスおよび情報産業で使用されます。ガラスコーティングの分野でも使用できます。また、耐摩耗性材料、高温耐食性、高級装飾用品、その他の産業にも適用できます。
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製品説明

 

スパッタリングされたタンタルターゲットは、その形状により角型ターゲット、円形ターゲット、異形ターゲットに分けられます。マグネトロン スパッタリングは、多くの点で蒸着コーティング法に比べて大きな利点がある新しい物理気相コーティング法です。マグネトロンスパッタリングは成熟した技術として、多くの分野に応用されています。イオン源で生成されたイオンを真空中で加速して集め、高速エネルギーのイオンビームを形成して固体表面に衝突させます。そこでイオンと固体表面の原子が運動エネルギーを交換し、表面の原子が固体表面から固体を離れ、基板表面に堆積します。

 

さまざまな種類のスパッタ薄膜材料が、半導体集積回路、太陽光発電、記録媒体、フラットパネルディスプレイ、ワーク表面コーティングなどに広く使用されています。銅ターゲット - 導電層、高純度銅材料は、抵抗が非常に低いため、技術のサブ 110 nm 部分の配線材料として大量に使用され、チップ集積度の向上に非常に効果的です。

製品詳細

ブランド

玉盛金属

製品名

タンタルスパッタリングターゲット

純度

99.95%

密度

95-99%

仕様

長さ<300 mm ; Width<300 mm Diameter<300 mm; Thickness<1 mm

許容範囲

±0.1mm

表面

3.2Ra

MOQ

1KG

 
弊社のスパッタリングタンタルターゲット
 

宝鶏裕盛金属技術有限公司

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タンタルターゲットの用途

コンデンサ
毎年消費されるタンタルの約半分は、主にコンデンサ用の粉末やワイヤとしてエレクトロニクス産業で使用されています。タンタル コンデンサは、電気通信、データ ストレージ、埋め込み型医療機器など、スペースを重視するハイエンド アプリケーションで好まれています。

エンジンタービンブレード
この金属は融点が高く、耐食性があるため、合金用途に適しています。タンタルはニッケル基高温合金への添加剤としても使用され、主な用途は航空機エンジンや陸上ガスタービンのタービンブレードです。

化学処理装置
タンタルの高い耐食性と高温耐性により、この金属は化学および製薬産業のコンテナ、パイプ、バルブ、熱交換器のライニングに理想的な構造材料となっています。

タンタルターゲット合金シリーズ
タンタルターゲットの他に、タンタルシリコン合金、タンタルアルミニウム合金、タンタルタングステン合金、ニッケルタンタル合金、コバルトジルコニウムタンタル合金、窒化タンタル、炭化タンタル、ホウ化タンタル、五酸化タンタルなどのスパッタリングターゲットも提供可能です。

製品ショー

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設備展示

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あなたのプロジェクトでタンタル ターゲットやその他のタンタル合金の性能材料が必要な場合は、当社までご連絡ください。お見積りを提示し、24 時間以内にご質問にお答えします。

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お問い合わせ

営業部長:

連絡先: 李鳳武

Email: kd@tantalumysjs.com

電話: 13379388917

ファックス: 0917-3139100

郵便番号: 721013

Web:https://www.tantalumysjs.com/

追加:中国陝西省宝鶏市高新開発区文泉村工業区

 

 

 

 

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