チタンターゲット

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製品カテゴリ:高純度金属ターゲット製品名:チタン(Ti)ターゲット元素記号:Ti純度:2N7、4N、4N5、5N形状:フラットターゲット回転ターゲット形状カスタム
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製品説明

チタン(Ti)ターゲットの概要

チタンターゲット材、チタン元素記号Ti、原子番号22、密度4.454g/cm3、物性:融点1668度、沸点3262度、比熱0.52(J/(Kg-K) 、蒸発熱 421 (KJ/Mol)、融解熱 15.45 (KJ/Mol)、電気伝導度 0.0234 (106/Cm) 高純度チタンのコストが高いため、適用分野主に半導体材料や超高真空装置のガス吸収材料として使用されているが、高純度チタンはガス吸収性が高く、特に水素、CH4、Co2ガスを吸収する性質があるため、高真空や超高真空で広く使用できる。 -高真空システム. 高純度チタン スパッタリングを使用して LSI、VLSI、および ULSI のライン ネットワークを作成すると、これらの統合部品を超軽量、薄型、小型、高密度にライン化できます. 高純度チタン ターゲットもバリア層の金属材料として使用できます。


当社は高純度のスパッタ チタン ターゲットを製造しています。その最も重要な利点は、優れた電気伝導性と物理蒸着中の粒子の最小化を備えた膜を得ることです。 使用した分析方法: 1. GDMS または ICP-OES を使用した金属元素分析。 2. LECOを用いたガス元素分析。

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