ニオブ スパッタリング ターゲット

周期表の第 5 族の金属であるニオブは、光沢があり、灰色で、延性があり、常磁性の金属 (表を参照) であり、最も外側の殻に電子の異常な構成があります。 (これは、パラジウム (45)、ロジウム (45)、およびルテニウム (44) (46) の近くで見られます。T=0 K からその融点まで、体心立方構造を持つと考えられています。結晶構造の3軸に沿った熱膨張を高分解能で測定した結果、立方晶構造とは一致しない異方性が示されており、この分野のさらなる研究が期待されています。

ニオブスパッタリングターゲットの詳細
純度: 99.95%;

円形: 直径: 16インチ。 ブロック: 長さ: 32インチ。 幅: 12インチ。 厚さ: 1mm;

ターゲットの種類: 平面スパッタリング ターゲット、ロータリー スパッタリング ターゲット。

ニオブ スパッタリング ターゲットの用途には、建築用ガラス、光ファイバー、光学フィルム、摩耗コーティングなどがあります。
特徴: 純度が良い。 精製された粒子 (平均粒径約 40 um)

製造方法

1.精製
電子ビーム溶融の多くのステップの後に、圧延とアニーリング、洗浄、および最終梱包が続きます。
環境毒素に対する保護
輸送中の保護
2.オプション
スパッタリングターゲット接合サービス; 99.95 パーセントの最低純度。 研究開発用途向けに小さいサイズも提供

関連製品

最高密度の高品質ニオブ スパッタリング ターゲットは、Yusheng Metal の専門分野です。 半導体、化学気相堆積 (CVD)、物理気相堆積 (PVD)、ディスプレイ、および光学アプリケーションでの使用には、最高の純度 (99.999%) と最小の平均粒子サイズのニオブ (Nb) スパッタリング ターゲットが利用可能です。 平面ターゲットの寸法と最大 820 mm の構成を備えた当社の業界標準の薄膜用スパッタリング ターゲットは、モノブロックまたは結合製品として入手できます。 それらは、従来のスパッタリング装置と、太陽エネルギーまたは燃料電池およびフリップチップ用途の大面積コーティングなどの最先端のプロセス装置の両方で機能するように設計された、穴あけ位置、ねじ切り、面取り、溝、およびバッキングを特徴としています。 さらに、カスタム サイズと金属は、研究サイズのターゲットと共に作成されます。蛍光 X 線 (XRF)、グロー放電質量分析 (GDMS)、誘導結合プラズマなどの最も効果的な方法論を使用して、すべてのターゲットを評価します ( ICP）。 「スパッタリング」とは、イオン衝撃によるターゲット材料の制御された除去および指向性ガス/プラズマ相への変換です。長方形、円形、または楕円形のほぼすべてのサイズのターゲットを除いて、この範囲外のターゲットも提供できます。

結晶化、固体状態、および昇華などのその他の超高度精製手順を使用して、材料を作成します。 American Elements は、ビジネス、学界、および革新的で独占的な技術で使用するための独自の構成を作成することを専門としています。さらに、Yusheng Metal は、ナノ粒子、溶液、有機金属などの他の技術を使用して、任意の希土類金属およびその他の最先端材料の大部分をロッド、バー、またはプレートの形に鋳造したり、さまざまな機械加工された形状に鋳造したりできます。 ロッド、ディスク、顆粒、インゴット、ペレット、ビットの製造に加えて、ニオブも製造しています。 ご要望に応じて、追加の形状もご利用いただけます。

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