ニオブ管ターゲット

Nb2O5 膜は優れた光学特性を持ち、光導波損失が小さく、導波路 SHG (第 2 高調波発生) デバイスに広く使用されています。 Nb2O5膜は紫外線吸収力が強いため、紫外線に敏感な素材の保護膜として使用できます。 Nb2O5 膜の屈折率が高いため、屈折率の異なる膜を SiO2 で調製できます。 近年、Nb2O5 フィルムは、優れた性能を持つエレクトロクロミック材料として、研究者の間で大きな関心を集めています。

Nb205 フィルムはますます広く使用されており、Nb の価格が高く、酸化しやすいことを考慮して、Nb ターゲットの需要が増加しているため、低コストで大型で環境に優しい、ニオブ管ターゲットの無公害製造方法。 現在、ニオブ管ターゲットの主な製造方法には、鍛造法とエンベロープ押し出し法の 2 つがあります。

（1）鍛造方法：真空製錬されたニオブインゴットを加熱して鍛造し、外円を必要なチューブブランクの外径に鍛造し、次に内径を機械加工により指定のサイズに加工します。 この方法の利点は、プロセスが単純で実装が容易なことです。 この方法の欠点は、材料の使用率が低く、コストが高く、内側の穴の機械加工の影響を受け、完成品の長さが制限されることです。

(2) カバー押出法: 公開番号 CN102489951A の特許出願に記載されている方法など: 中空の製錬ニオブ インゴットを使用して、内側の穴を機械加工します (内側の穴のサイズは、完成したニオブ チューブの内径よりもわずかに大きく、完成したニオブ管の内径は128mm、内孔は135mmなど）、被覆、加熱、押出、酸洗（被覆皮の除去）、熱処理、最終製品への機械加工。 この方法の利点は、さまざまな仕様とサイズのニオブ チューブ ターゲットを細かく均一な粒子で製造できることです。 この方法の欠点は、プロセス フローが長い、プロセスが複雑である、内部の穴のサイズが近似しすぎている、材料の利用率が低い、コストが高い、および酸洗が環境を汚染していることです。

新しいプロセス方法を使用して当社が取得したNiチューブターゲットは、マグネトロンスパッタリングに特に適しており、プロセスが簡単で、材料の利用率が高く、生産コストが低く、環境保護、および無公害の利点があります。 Ni管ターゲットが必要なお客様は、いつでもご連絡ください。

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