タンタルスパッタリングターゲット
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タンタルスパッタリングターゲット

名前:Tantalum TargetGrade:TA1 R05200ORIGIN:SHAANXI、CHANASTANDARD:ASTM B386Purity:99.95%以上の仕様:DIA357*THK23mmquantity:10断片化:Tantalumターゲットのサイズはカスタマイズできます。
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製品説明
 

製品の説明

 
Tantalum Target

純度:99.95%
タイプ:フラット、ステップ、マルチアーク
状態:コールド処理状態
表面の色:明るい表面
生産プロセス:タンタル原料 - 電子電子ビーム真空融解焦点吸引装置配信
配達方法:エクスプレス配達(顧客指定の場所)
梱包方法:材料証明書と梱包リスト、その他のアクセサリーを備えた標準の木製ボックスパッケージ。
保証サービス:保証期間中に質の高い問題がある場合、返品と交換がサポートされています(通常の使用範囲内)。
リサイクル:このユニットは、材料のリサイクルと価格交渉をサポートします。
使用:タンタルラウンドは、耐腐食性の超伝導、コーティング、その他の産業に使用されます。

 

製品プロセス

 

a。原材料の選択
ターゲット材料の性能と品質を確保するために、99.95%以上の純度で高純度のタンタルパウダーを選択します。
b。パウダーモールディング
押し:前処理したタンタル粉末を金型に入れ、最初に形成するために特定の圧力の下で押し込みます。
アイソスタティックプレス:密度の均一性のための高い要件を持つ一部のターゲットの場合、等吸着性のプレスは、プレス後に使用されます。
c。焼結
真空焼結:形成された空白を焼結するために真空焼結炉に入れます。焼結温度は通常、1800-2200程度です。
d。処理
切断:切断装置を使用して、実際の使用要件に応じて、焼結ターゲットを必要なサイズと形状にカットします。
研削と研磨:カットターゲットの表面を粉砕および磨き、滑らかな表面品質を得て、ターゲットの表面の平坦性と粗さのスパッタリングプロセスの要件を満たします。
溶接またはアセンブリ:いくつかの大規模または複雑な構造ターゲットの場合、溶接またはその他のアセンブリ方法によって複数の小さなターゲット材料を接続して、完全なターゲットアセンブリを形成する必要がある場合があります。

 

 

製品品質検査

 

a。コンポーネントの検出:スペクトル分析、化学分析、その他の方法を使用して、コンポーネントを検出して、純度が要件を満たしていることを確認します。
b。密度の検出:ターゲットの密度を検出して、その密度程度が要件を満たしているかどうかを判断します。
c。表面の品質検出:表面粗さを測定する機器や光学顕微鏡などの機器を使用して、ターゲット表面の平坦性、粗さ、欠陥を検出して、表面の品質がスパッタリングプロセスの要件を満たすようにします。
d。パフォーマンステスト:抵抗率、硬度、曲げ強度などのターゲット材料の電気的および機械的特性をテストして、ターゲット材料が実際のアプリケーションのパフォーマンス要件を満たしているかどうかを評価します。

High Purity Tantalum Target
 

アフターセールス通知

 
作業プロセスをチェックアウトします

 

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01

注文することについて

オンラインカスタマーサービスに連絡して、商品が在庫があるかどうかを確認し、配送先住所を確認し、配送の詳細を交渉してください、ありがとう!

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02

配達について

実際の配送時間は、2つの当事者間の合意された時間に基づいています。当社の製品は、標準的な方法で輸出用にパッケージ化されています。

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輸送コスト

一般的に、物流輸送が採用されています。距離が異なるため、実際の貨物は購入前に交渉されます。特定のコストの問題については、オンラインカスタマーサービスに相談するか、お電話ください。

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04

アフターセールスについて

商品は、配達前に厳密に検査されます。製品の品質の問題がある場合は、オンラインカスタマーサービスに製品写真を提供してください。

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