ジルコニウムスパッタリングターゲット

同様の特性は、ジルコニウム スパッタリング ターゲットの特性にも当てはまります。 融点は 1852 度、密度は 6.49g/cc、1987 度での蒸気圧は 10 -4 Torr です。 光沢があり、オフホワイトで、チタンやハフニウムにやや似ている強い遷移金属です。 ジルコニウムは主に乳白剤および耐火材料として使用されますが、その耐食性が高いため、少量のジルコニウムは合金化剤としても使用されます.

ジルコニウム スパッタリング ターゲットの特性 (理論値)

ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、溶融プロセスを使用して製造され、通常、光学および装飾コーティングに使用されます。 Leybold コーティング装置用に標準の Hf および Zr ターゲットを提供しています。これは、ハフニウムがほとんど含まれていない高純度のターゲットです。

一方、金色の膜を作成するには、ジルコニウム アーク陰極と純度の低いスパッタリング ターゲットが使用されます。 エンド ユーザーは、最大 99.4% の純度、一貫した粒子サイズ、および不純物含有量の減少により、非常に長期間変色または変色しない良好な硬度、高輝度、耐腐食性および耐酸化性の色を実現できます。 時計、衛生陶器、車両ミラー等のメーカー様向けに、各種マグネトロンスパッタリング装置、イオンプレーティング装置に適したジルコニウムターゲットやジルコニウムアークカソードを納入しております。

3N5 ジルコニウム スパッタリング ターゲットの通常の分析証明書を以下に示します。
分析技術:

1. ICP-OES を使用して金属元素を調べました。

2. LECO は気体元素の研究に使用されました。

Yusheng Metals は、半導体、化学蒸着 (CVD)、物理蒸着 (PVD)、ディスプレイ、および光学アプリケーション向けに、最高の密度と最小の平均粒子サイズを備えた高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットを専門としています。サイズと構成のフラット ターゲットを提供しています。最大 820 mm、モノリシックおよび接着バリアントで、穴あけ位置と、ねじ山、ベベル、くぼみ、およびバックシートのデザインを備えています。 これらのターゲットは、フリップチップや燃料または太陽電池用の大面積コーティングなど、古いものと最新のスパッタリング装置の両方で使用できます。 さらに、独自のサイズと合金、および研究目的が製造されています。

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