Ta スパッタターゲット

Yusheng金属タンタルスパッタリングターゲットの製造プロセス
Yusheng Metal のタンタル スパッタリング ターゲット製品は、EB 電子衝撃、圧延、アニーリング プロセスを使用してタンタル インゴットから加工されます。このプロセスで作られたターゲットは、結晶構造、組織、エネルギー分布が均一であり、内部構造も良好です。

近年、IC（集積回路）産業の規模は拡大を続け、チッププロセス技術も高密度化の方向に発展してきました。タンタルは化学的安定性が高いため、銅接続プロセスにおける拡散バリア層のスパッタ コーティング材料としてよく使用されます。タンタル スパッタリング ターゲットの均一な微細構造は、スパッタリング性能に直接影響します。

Tantalum targets require fine and uniform grains, randomly dispersed grain orientation, and excellent film manufacturing performance. However, due to the properties of tantalum, a microstructure can easily form during cold working with a core orientation of 111 (111>/ND) and a surface orientation of 100 (100>/ND)。薄膜を製造する場合、ターゲットの厚さによってスパッタリング速度が変化し、スパッタリングプロセスの安定性に影響を与えます。

スパッタリングターゲットの原理

タンタルは、薄い酸化物を形成する能力と酸化物層の保護特性により、電解コンデンサの製造によく使用されます。タンタル蒸着の初期段階では蒸着が使用されていましたが、1960 年代後半にスパッタ コーティングなどの物理蒸着技術が薄膜蒸着の優れた方法として登場すると、それらが蒸着に取って代わりました。

物理蒸着プロセスでは、イオン化したアルゴン原子が電磁力学を利用してターゲットに衝突し、金属ターゲット原子をノックダウンし、金属ターゲット原子が基板上に蒸着されて薄膜が形成されます。

タンタルスパッタリングターゲット

タンタルターゲット

裕盛金属生産設備

Yusheng Metalは、製錬、鍛造、熱間圧延、冷間圧延、仕上げから完成品までの科学研究、生産、試験、販売およびサービスシステムの完全なセットを備えています。 350KWの東衝撃炉、2000Tの油圧プレス、1700mmの真空焼鈍炉、42KWの1台と15KWの精密鍛造機2台、仕上げストリップミル14台、LDD120、LDD-40、LDD{{8}を備えています。 }、LDD-8複線パイプ圧延機、2-ロール500Tブランキングミル、冷間圧延機4台、冷間圧延機6台機械、15KW両面伸線機、円筒研削盤、ピーリング機、平面研削盤と一連の装置。

タンタルスパッタリングターゲットの応用

タンタルスパッタリングターゲット材はタンタルシートを加圧加工したもので、高純度、微細粒子、良好な再結晶構造、良好な三軸整合性などの特徴を持っています。
タンタル スパッタリング ターゲットは、オプトエレクトロニクスおよび半導体産業で広く使用されています。これらは主に、陰極スパッタリングコーティング、高真空吸引活性材料、光ファイバー、半導体ウェーハ、集積回路などのスパッタリング堆積に使用され、薄膜技術の重要な部分です。

 

宝鶏裕盛金属技術有限公司は、希少な金タンタル、ニオブ、バナジウム、ジルコニウム、ハフニウム加工部品の世界的なサプライヤーです。主に線材、棒材、板材、チューブ、リング、るつぼ等の規格外の特殊加工部品を生産しております。当社は、材料技術の研究開発、材料成果の産業化、材料製品の応用と促進、材料産業の集積、材料産業の生態系など、当社の製品および材料分野に関連する情報を定期的に公開します。いつでもご連絡お待ちしております。

 

 

お問い合わせ

営業部長：

連絡先: 李鳳武

Email: kd@tantalumysjs.com

電話: 13379388917

ファックス: 0917-3139100

郵便番号: 721013

ウェブ：https://www.tantalumysjs.com/

追加:中国陝西省宝鶏市高新開発区文泉村工業区

 

 

 

人気ラベル: ta スパッタ ターゲット、サプライヤー、メーカー、工場、カスタマイズ、購入、価格、見積もり、品質、販売用、在庫あり